据ETNews报道，苹果将为20周年纪念版iPhone采用三星制造的COE（封装层彩色滤光片）OLED技术，使显示屏比以往面板更明亮、更纤薄。
传统OLED面板在显示屏上方贴有偏光膜以减少反光并提升对比度，但该膜层会吸收部分OLED自发光，导致亮度和能效降低。采用COE技术后，苹果将完全移除偏光膜，直接将彩色滤光片应用于OLED保护封装层。
此举不仅能实现更薄的显示堆叠结构，允许更多光线透过，还能在不增加功耗的前提下提升亮度。层数减少也意味着整体厚度降低，这可能为iPhone带来更轻薄的设计。
然而苹果面临的挑战在于：移除偏光膜后反射光和眩光控制将更加复杂，因此可能需要依靠先进镀膜技术和像素级材料来保持户外可读性。
若苹果在2027年iPhone（iPhone X问世十周年）中应用COE技术，这将是该公司首次在非折叠设备上使用该技术。三星则预计在2026年将COE技术扩展至Galaxy S26 Ultra——早在2021年，三星就已于Galaxy Z Fold 3中首次采用COE技术以实现机身轻薄化。
据报道，苹果正考虑对20周年纪念版iPhone进行彻底重新设计，可能采用覆盖设备四曲边的完全无边框显示屏。该机型预计将于2026年苹果首款折叠屏iPhone之后亮相。
